ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং বৈদ্যুতিক গরম করার টিউবগুলির PVD প্রক্রিয়াতে কী ধরণের ধাতব ফিল্ম পাওয়া যেতে পারে?
একটি বার্তা রেখে যান
ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং বৈদ্যুতিক গরম করার টিউবগুলির PVD প্রক্রিয়াতে কী ধরণের ধাতব ফিল্ম পাওয়া যেতে পারে?
অ্যালুমিনিয়াম (AL), টাইটানিয়াম (Ti), টাইটানিয়াম নাইট্রাইড (TiN), কোবাল্ট (Co)।
সাধারণত, যখন ওয়েফার PVD মেশিনে প্রবেশ করে, তখন এটিকে টাইটানিয়াম/টাইটানিয়াম নাইট্রাইড/অ্যালুমিনিয়াম/টাইটানিয়াম/টাইটানিয়াম নাইট্রাইড দিয়ে প্রলেপ দিতে হবে। ধাতুর পাঁচটি স্তর।
কোবাল্টের কাজ হল ধাতব সিলিসাইড (সিলিসাইড)।
ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ইলেকট্রিক হিটিং টিউবের পিভিডি প্রক্রিয়ার নীতি কী?
টার্গেট এবং ওয়েফারের মধ্যে একটি উচ্চ সম্ভাব্য পার্থক্য যোগ করা হয়েছে। এই সময়ে, প্রক্রিয়া গ্যাস Ar উচ্চ সম্ভাব্য পার্থক্যের অধীনে Ar প্লাসে বিচ্ছিন্ন হয়ে যায়, এবং যেহেতু Ar প্লাস ইতিবাচকভাবে চার্জযুক্ত এবং বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের দ্বারা আকৃষ্ট হয়, তাই এটি লক্ষ্যের সাথে সংঘর্ষ করে, যার ফলে লক্ষ্যবস্তুতে ধাতব দানা তৈরি হয় যা অভিকর্ষের কারণে পড়ে যায়। . ওয়েফার থেকে একটি ফিল্ম গঠন. এই প্রক্রিয়া PVD.
ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ইলেকট্রিক হিটিং টিউবের লক্ষ্য কী?
PVD-তে, লক্ষ্য হল একটি ধাতব উপাদান যা একটি ফিল্ম সরবরাহ করতে ব্যবহৃত হয়।
ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং বৈদ্যুতিক গরম করার নল PVD আবরণ লক্ষ্য মৌলিক নীতি
শারীরিক বাষ্প জমা প্রযুক্তির মূল নীতিটি তিনটি প্রক্রিয়াকরণ ধাপে বিভক্ত করা যেতে পারে:
(1) আবরণ উপাদানের বাষ্পীকরণ, অর্থাৎ, আবরণ উপাদানের বাষ্পীভবন, যা স্পুটারিংয়ের মতো নয়।
(2) ইলেক্ট্রোপ্লেটিং পরমাণু, অণু বা আয়নগুলির স্থানান্তর: পরমাণু, অণু বা আয়নের সংঘর্ষের পরে বিভিন্ন প্রতিক্রিয়া ঘটে।
(3) ইলেক্ট্রোপ্লেটিং পরমাণু, অণু বা আয়নগুলি সাবস্ট্রেটে জমা হয়।
ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ইলেকট্রিক হিটিং টিউব পিভিডি আবরণ টার্গেট?
ভৌত বাষ্প জমা (PVD) হল একটি পাতলা ফিল্ম প্রস্তুতি প্রযুক্তি যা শারীরিকভাবে একটি লক্ষ্যের পৃষ্ঠকে গ্যাসীয় পরমাণু, অণু বা অংশগুলিকে ভ্যাকুয়াম অবস্থার অধীনে আয়নে পরিণত করে। কার্যকরী ফিল্মটি সাবস্ট্রেটের পৃষ্ঠে জমা হয়। ভৌত বাষ্প জমার প্রধান পদ্ধতির মধ্যে রয়েছে ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন, স্পুটারিং ডিপোজিশন, আর্ক প্লাজমা প্লেটিং, আয়ন প্লেটিং ইত্যাদি।
www.superbheater.com
