ভ্যাকুয়াম কোটারের পিভিডি আবরণের মৌলিক ধারণা
একটি বার্তা রেখে যান
ভ্যাকুয়াম কোটারের পিভিডি আবরণের মৌলিক ধারণা
PVD হল ইংরেজি 'Physical Vapor Deposition' এর সংক্ষিপ্ত রূপ, যার অর্থ শারীরিক বাষ্প জমা। আমরা এখন সাধারণত ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন, স্পুটার আবরণ, আয়ন প্রলেপ ইত্যাদিকে ভৌত বাষ্প জমা হিসাবে উল্লেখ করি।
আরও পরিপক্ক PVD পদ্ধতি হল প্রধানত মাল্টি-আর্ক প্লেটিং এবং ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং। মাল্টি-আর্ক প্লেটিং সরঞ্জাম কাঠামোতে সহজ এবং পরিচালনা করা সহজ। এর আয়ন বাষ্পীভবন উৎস বৈদ্যুতিক ওয়েল্ডিং মেশিনের পাওয়ার সাপ্লাই দ্বারা চালিত হতে পারে এবং এর আর্ক ইগনিশন প্রক্রিয়া বৈদ্যুতিক ঢালাইয়ের মতোই। বিশেষত, একটি নির্দিষ্ট প্রক্রিয়ার চাপের অধীনে, আর্ক ইগনিশন সুই এবং বাষ্পীভবন আয়ন উত্স সংক্ষিপ্তভাবে যোগাযোগ করে এবং সংযোগ বিচ্ছিন্ন করা হয়, যাতে গ্যাসটি নির্গত হয়। যেহেতু মাল্টি-আর্ক প্লেটিং গঠনটি মূলত ক্রমাগত চলমান আর্ক স্পটটির কারণে হয়, তাই বাষ্পীভবনের উত্সের পৃষ্ঠে একটি গলিত পুল ক্রমাগত তৈরি হয় এবং ধাতুটি বাষ্পীভূত হওয়ার পরে, এটি একটি পাতলা ফিল্ম পাওয়ার জন্য স্তরে জমা হয়। স্তর ম্যাগনেট্রন স্পুটারিংয়ের সাথে তুলনা করে, এটিতে শুধুমাত্র লক্ষ্যবস্তুর ব্যবহারের হার বেশি নয়, তবে উচ্চ ধাতব আয়ন আয়নকরণ হার এবং ফিল্ম এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে শক্তিশালী বন্ধন শক্তির সুবিধাও রয়েছে। উপরন্তু, মাল্টি-আর্ক আবরণের রঙ তুলনামূলকভাবে স্থিতিশীল, বিশেষ করে টিআইএন আবরণ তৈরি করার সময়, প্রতিটি ব্যাচ সহজেই একই স্থিতিশীল সোনালী হলুদ পেতে পারে, যা ম্যাগনেট্রন স্পুটারিংয়ের নাগালের বাইরে। মাল্টি-আর্ক প্লেটিংয়ের অসুবিধা হল যে প্রথাগত ডিসি পাওয়ার সাপ্লাই সহ নিম্ন তাপমাত্রার আবরণের শর্তে, যখন আবরণের বেধ 0.3μm এ পৌঁছায়, তখন জমার হার প্রতিফলনের কাছাকাছি থাকে এবং ফিল্ম গঠন খুব বেশি হয়ে যায়। কঠিন এছাড়াও, ফিল্মের পৃষ্ঠটি ধোঁয়াটে হতে শুরু করে। মাল্টি-আর্ক প্লেটিং এর আরেকটি অসুবিধা হল যেহেতু ধাতু গলে যাওয়ার পরে বাষ্পীভূত হয়, জমা কণাগুলি বড় হয়, ঘনত্ব কম এবং পরিধান প্রতিরোধ ক্ষমতা ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং পদ্ধতির চেয়ে খারাপ।
www.superbheater.com
