ইলেক্ট্রোথার্মাল টিউব ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ধাতুর গরম কাজের পদ্ধতি
একটি বার্তা রেখে যান
ইলেক্ট্রোথার্মাল টিউব ইলেক্ট্রোপ্লেটিং ধাতুর গরম কাজের পদ্ধতি
এই পদ্ধতিটি ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে একটি আবরণ তৈরি করে উচ্চ তাপমাত্রার অবস্থার অধীনে পদার্থের গলে যাওয়া বা তাপীয় প্রসারণের আদেশ দেয়। প্রধান পদ্ধতি হল:
（1） হট ডিপ প্লেটিং
একটি ধাতব ওয়ার্কপিসকে গলিত ধাতুতে স্থাপন করার জন্য তার পৃষ্ঠের উপর একটি আবরণ তৈরি করার প্রক্রিয়াটিকে হট ডিপ প্লেটিং বলা হয়, যেমন হট ডিপ গ্যালভানাইজিং, হট ডিপ অ্যালুমিনিয়াম প্লেটিং ইত্যাদি।
(2) তাপ স্প্রে করা
গলিত ধাতুকে পরমাণুকরণ করে একটি আবরণ তৈরি করার জন্য ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে স্প্রে করার প্রক্রিয়াটিকে তাপ স্প্রে করা হয়, যেমন জিঙ্কের তাপ স্প্রে করা, অ্যালুমিনিয়ামের তাপ স্প্রে করা ইত্যাদি।
（3） হট স্ট্যাম্পিং
ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠকে ঢেকে রাখার জন্য ধাতব ফয়েল গরম করার এবং চাপ দেওয়ার প্রক্রিয়া, একটি আবরণ স্তর তৈরি করে, তাকে হট স্ট্যাম্পিং বলা হয়, যেমন হট স্ট্যাম্পিং অ্যালুমিনিয়াম ফয়েল।
(4) রাসায়নিক তাপ চিকিত্সা
যে প্রক্রিয়ায় একটি ওয়ার্কপিস একটি রাসায়নিক পদার্থের সংস্পর্শে আসে, উত্তপ্ত হয় এবং একটি উপাদানকে উচ্চ তাপমাত্রায় ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে প্রবেশের আদেশ দেয় তাকে রাসায়নিক তাপ চিকিত্সা বলে, যেমন নাইট্রাইডিং, কার্বারাইজিং ইত্যাদি।
（5） ওভারলে ঢালাই
ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে জমা ধাতুকে ঢালাই করে ঢালাই স্তর গঠনের প্রক্রিয়াকে ওভারলে ওয়েল্ডিং বলা হয়, যেমন পরিধান-প্রতিরোধী সংকর ধাতুগুলির ওভারলে ঢালাই।
ভ্যাকুয়াম পদ্ধতি
এই পদ্ধতিটি একটি উচ্চ শূন্য অবস্থায় ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে জমা করার জন্য উপাদান গ্যাসীকরণ বা আয়নকরণের অর্ডার দেওয়ার প্রক্রিয়া, একটি আবরণ তৈরি করে। প্রধান পদ্ধতি হল।
(1) শারীরিক বাষ্প জমা (PVD)
ভ্যাকুয়াম অবস্থার অধীনে, ধাতুকে পরমাণু বা অণুতে বাষ্পীভূত করার প্রক্রিয়া, বা এর আয়নগুলিকে আয়নে রূপান্তরিত করে এবং সরাসরি একটি আবরণ তৈরি করতে ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে জমা করার প্রক্রিয়াকে ভৌত বাষ্প জমা বলে। জমা হওয়া কণার মরীচি অ রাসায়নিক কারণ থেকে আসে, যেমন বাষ্পীভবন প্লেটিং, স্পুটারিং প্লেটিং, আয়ন প্রলেপ ইত্যাদি।
(2) আয়ন ইমপ্লান্টেশন
উচ্চ ভোল্টেজের অধীনে একটি ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে বিভিন্ন আয়ন ইনজেকশন করার প্রক্রিয়াটিকে তার পৃষ্ঠকে সংশোধন করার জন্য আয়ন ইমপ্লান্টেশন বলা হয়, যেমন বোরন ইনজেকশন।
(3) রাসায়নিক বাষ্প জমা (CVD)
কম চাপে (কখনও কখনও বায়ুমণ্ডলীয় চাপেও) গ্যাসীয় পদার্থের রাসায়নিক বিক্রিয়ার কারণে একটি ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে একটি কঠিন জমা স্তর গঠনের প্রক্রিয়াকে রাসায়নিক বাষ্প জমা বলা হয়, যেমন সিলিকন অক্সাইড, সিলিকন নাইট্রাইড ইত্যাদির বাষ্প জমা।
অন্যান্য পদ্ধতি
প্রধানত যান্ত্রিক, রাসায়নিক, ইলেক্ট্রোকেমিক্যাল এবং শারীরিক পদ্ধতি। প্রধান পদ্ধতি হল:
(1) পেন্টিং
একটি আবরণ তৈরি করার জন্য একটি ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে পেইন্ট (জৈব বা অজৈব) প্রয়োগ করার প্রক্রিয়াটিকে পেইন্টিং বলা হয়, যেমন স্প্রে করা বা ব্রাশ করা।
（2） প্রভাব কলাই
যান্ত্রিক শক দ্বারা ওয়ার্কপিস পৃষ্ঠে একটি আবরণ গঠনের প্রক্রিয়াটিকে ইমপ্যাক্ট প্লেটিং বলা হয়, যেমন ইমপ্যাক্ট গ্যালভানাইজিং।
（3） লেজার পৃষ্ঠ চিকিত্সা
একটি লেজার দিয়ে একটি ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠকে বিকিরণ করে এর গঠন পরিবর্তন করার প্রক্রিয়াটিকে লেজার পৃষ্ঠ চিকিত্সা বলা হয়, যেমন লেজার নিভেন, লেজার রিমেল্টিং ইত্যাদি।
（4） সুপারহার্ড মেমব্রেন প্রযুক্তি
শারীরিক বা রাসায়নিক পদ্ধতি ব্যবহার করে ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে সুপারহার্ড ফিল্ম প্রস্তুত করার প্রযুক্তিকে সুপারহার্ড ফিল্ম প্রযুক্তি বলা হয়। যেমন ডায়মন্ড ফিল্ম, কিউবিক বোরন নাইট্রাইড ফিল্ম ইত্যাদি।
（5） ইলেক্ট্রোফোরেসিস এবং ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক স্প্রে করা
1. ইলেক্ট্রোফোরেসিস
ওয়ার্কপিসটি একটি পরিবাহী জল-দ্রবণীয় বা জল ইমালসিফাইড আবরণে একটি ইলেক্ট্রোড হিসাবে স্থাপন করা হয়, আবরণে অন্য ইলেক্ট্রোডের সাথে একটি সার্কিট তৈরি করে। একটি বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের ক্রিয়াকলাপের অধীনে, আবরণ দ্রবণটি চার্জযুক্ত রজন আয়নে বিচ্ছিন্ন হয়ে গেছে, ক্যাটেশনগুলি ক্যাথোডের দিকে এবং অ্যানিয়নগুলি অ্যানোডের দিকে চলে যাচ্ছে। এই চার্জযুক্ত রজন আয়নগুলি, শোষিত রঞ্জক কণাগুলির সাথে, ইলেক্ট্রোফোরেটিক ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে একটি আবরণ তৈরি করে, একটি প্রক্রিয়া যা ইলেক্ট্রোফোরেসিস নামে পরিচিত।
2. ইলেক্ট্রোস্ট্যাটিক স্প্রে করা
একটি উচ্চ ভোল্টেজ সরাসরি বর্তমান বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের ক্রিয়াকলাপের অধীনে পরমাণুযুক্ত ঋণাত্মক চার্জযুক্ত পেইন্ট কণাগুলিকে একটি ইতিবাচক চার্জযুক্ত ওয়ার্কপিসের দিকে নির্দেশ করে একটি পেইন্ট ফিল্ম পাওয়ার প্রক্রিয়াটিকে স্ট্যাটিক স্প্রে করা বলে।
www.superbheater.com
